Use of a helicon-wave excited plasma for aluminum-doped ZnO thin-film sputtering

K. Yamaya, Y. Yamaki, H. Nakanishi, S. Chichibu

研究成果: Article査読

59 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Use of a helicon-wave excited plasma for aluminum-doped ZnO thin-film sputtering」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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