Universal theory of workfunctions at metal/Hf-based high-k dielectrics interfaces -Guiding principles for gate metal selection

K. Shiraishi, Y. Akasaka, S. Miyazaki, T. Nakayama, T. Nakaoka, G. Nakamura, K. Torii, H. Furutou, A. Ohta, P. Ahmet, K. Ohmori, H. Watanabe, T. Chikyow, M. L. Green, Y. Nara, K. Yamada

研究成果: Conference contribution

17 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Universal theory of workfunctions at metal/Hf-based high-k dielectrics interfaces -Guiding principles for gate metal selection」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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