Tilt-insensitive film thickness measurement using a double twin-path interferometer

K. Hane, K. Yoneda, S. Hattori

研究成果: Article査読

抄録

A lock-in amplifier detection method for measuring the film thickness on a flat substrate has been developed by using a common-path interferometer. The signal due to the film thickness has been obtained without it being affected by the tilting of the substrate. The sensitivity was better than 0.5 nm.

本文言語English
ページ(範囲)208-212
ページ数5
ジャーナルOptics and Laser Technology
17
4
DOI
出版ステータスPublished - 1985 8月
外部発表はい

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 原子分子物理学および光学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Tilt-insensitive film thickness measurement using a double twin-path interferometer」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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