Thermal stability and chemical bonding states of AlO x N y /Si gate stacks revealed by synchrotron radiation photoemission spectroscopy

G. He, S. Toyoda, Y. Shimogaki, M. Oshima

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フィンガープリント

「Thermal stability and chemical bonding states of AlO x N y /Si gate stacks revealed by synchrotron radiation photoemission spectroscopy」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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