Tensilely-stressed SiN films reactively sputtered in KrN2 plasmas for producing free-standing devices

Iwao Sugimoto, Satoko Nakano, Hiroki Kuwano

研究成果: Article査読

8 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Tensilely-stressed SiN films reactively sputtered in KrN<sub>2</sub> plasmas for producing free-standing devices」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Chemical Compounds

Engineering & Materials Science

Physics & Astronomy