Tantalum nitride metal gate FD-SOI CMOS FETs using low resistivity self-grown bcc-tantalum layer

Hiroyuki Shimada, Ichiro Ohshima, Takeo Ushiki, Shigetoshi Sugawa, Tadahiro Ohmi

研究成果: Article査読

25 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Tantalum nitride metal gate FD-SOI CMOS FETs using low resistivity self-grown bcc-tantalum layer」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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