Sub-10-nm EB lithography using poly(α-methylstyrene) resist of molecular weight 650

S. Manako, J. Fujita, K. Tanigaki, Y. Ochiai, E. Nomura

研究成果: Conference contribution

フィンガープリント

「Sub-10-nm EB lithography using poly(α-methylstyrene) resist of molecular weight 650」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。