Sub-10-nm EB lithography using poly(α-methylstyrene) resist of molecular weight 650

S. Manako, J. Fujita, K. Tanigaki, Y. Ochiai, E. Nomura

研究成果: Conference contribution

本文言語English
ホスト出版物のタイトルDigest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 1998
ホスト出版物のサブタイトル1998 International Microprocesses and Nanotechnology Conference
編集者Hyung Joon Yoo, Shinji Okazaki, Jinho Ahn, Ohyun Kim, Masanori Komuro
出版社Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
ページ325-326
ページ数2
ISBN(電子版)4930813832, 9784930813831
DOI
出版ステータスPublished - 1998
外部発表はい
イベント1998 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 1998 - Kyoungju, Korea, Republic of
継続期間: 1998 7 131998 7 16

出版物シリーズ

名前Digest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 1998: 1998 International Microprocesses and Nanotechnology Conference
1998-July

Other

Other1998 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 1998
国/地域Korea, Republic of
CityKyoungju
Period98/7/1398/7/16

ASJC Scopus subject areas

  • 材料科学(全般)
  • 核物理学および高エネルギー物理学
  • コンピュータ サイエンスの応用

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