Stress control of AlN thin film sputter-deposited using ECR plasma

Ryunosuke Hino, Takeshi Matsumura, Masayoshi Esashi, Shuji Tanaka

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Stress control of AlN thin film sputter-deposited using ECR plasma」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science