Step fluctuations on vicinal Si(113)

K. Sudoh, T. Yoshinobu, H. Iwasaki, Ellen D. Williams

研究成果: Article査読

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抄録

The fluctuation properties of steps relevant to step coalescence have been measured using scanning tunneling microscopy on a Si(113) surface miscut along a low symmetry azimuth. In local thermal equilibrium at 710 °C coexistence of single, double, triple, and quadruple steps has been observed. From direct measurement of the step-correlation function, the step stiffness is shown to be proportional to the step height, with an additional stabilization of double-height steps. This result is shown to require a step-step attraction energy close to kT.

本文言語English
ページ(範囲)5152-5155
ページ数4
ジャーナルPhysical review letters
80
23
DOI
出版ステータスPublished - 1998
外部発表はい

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  • 物理学および天文学(全般)

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「Step fluctuations on vicinal Si(113)」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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