Stacked sputtering process for Ti, Ta, and W carbide formation for gate metal application

K. Tuokedaerhan, R. Tan, K. Kakushima, P. Ahmet, Y. Kataoka, A. Nishiyama, N. Sugii, H. Wakabayashi, K. Tsutsui, K. Natori, T. Hattori, H. Iwai

研究成果: Article査読

9 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Stacked sputtering process for Ti, Ta, and W carbide formation for gate metal application」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy