Stability of radicals in aryl-substituted polysilanes with linear and planar silicon skeleton structures

Shu Seki, Keith R. Cromack, Alexander D. Trifunac, Yoichi Yoshida, Seiichi Tagawa, Keisuke Asai, Kenkichi Ishigure

研究成果: Article

24 引用 (Scopus)

フィンガープリント Stability of radicals in aryl-substituted polysilanes with linear and planar silicon skeleton structures' の研究トピックを掘り下げます。これらはともに一意のフィンガープリントを構成します。

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