Spin relaxation through lateral spin transport in heavily doped n -type silicon

M. Ishikawa, T. Oka, Y. Fujita, H. Sugiyama, Y. Saito, K. Hamaya

研究成果: Article査読

33 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Spin relaxation through lateral spin transport in heavily doped n -type silicon」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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