Resonant X-ray scattering study of hidden order in URu2Si 2 using a low-stress single crystal

H. Amitsuka, T. Inami, M. Yokoyama, S. Takayama, Y. Ikeda, I. Kawasaki, Y. Homma, H. Hidaka, T. Yanagisawa

研究成果: Conference article査読

25 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Resonant X-ray scattering study of hidden order in URu<sub>2</sub>Si <sub>2</sub> using a low-stress single crystal」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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