Rapid chemical vapour-deposition of Si3N4

Toshio Hirai, Koichi Niihara, Takashi Goto

研究成果: Letter査読

16 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Rapid chemical vapour-deposition of Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。