Preparation of CuCl microcrystals-doped SiO2 glass by co-sputtering method

Seiichi Takami, Yasuyuki Egashira, Itaru Homma, Hiroshi Komiyama

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抄録

CuCl microcrystals-doped SiO2 glass is prepared by the co-sputtering method using extremely pure CuCl source materials as well as a pure SiO2 target. Low temperature optical absorption spectra (2 K) show the shift of the Z1,2 as well as the Z3 exciton peaks, indicating that the mean radius of the microcrystals is about 5.8 nm.

本文言語English
ページ数1
ジャーナルApplied Physics Letters
出版ステータスPublished - 1995 12月 1

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  • 物理学および天文学(その他)

フィンガープリント

「Preparation of CuCl microcrystals-doped SiO2 glass by co-sputtering method」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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