Prediction of UV spectra and UV-radiation damage in actual plasma etching processes using on-wafer monitoring technique

Butsurin Jinnai, Seiichi Fukuda, Hiroto Ohtake, Seiji Samukawa

研究成果: Article査読

40 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Prediction of UV spectra and UV-radiation damage in actual plasma etching processes using on-wafer monitoring technique」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy