Optimally stable electron cyclotron resonance plasma generation for precise ulsi patterning

研究成果: Conference article査読

抄録

This paper discusses microwave absorption around the electron cyclotron resonance (ECR) region in relation to the magnetic field profiles and microwave conditions, and shows how to achieve stable, uniform and efficient microwave absorption in an ECR plasma to prevent the instability. A high-performance multi-coil system and a new microwave introduction method developed for stable plasma generation are described. Experimental results show that sufficiently precise patterning suitable for practical use is achieved.

本文言語English
ページ(範囲)202-212
ページ数11
ジャーナルProceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
1803
DOI
出版ステータスPublished - 1993 4 16
外部発表はい
イベントAdvanced Techniques for Integrated Circuit Processing II 1992 - San Jose, United States
継続期間: 1992 9 201992 9 25

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 凝縮系物理学
  • コンピュータ サイエンスの応用
  • 応用数学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Optimally stable electron cyclotron resonance plasma generation for precise ulsi patterning」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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