New radical-control method for SiO2 etching with non-perfluorocompound gas chemistries

Seiji Samukawa, Ken Ichiro Tsuda

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「New radical-control method for SiO2 etching with non-perfluorocompound gas chemistries」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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