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研究成果
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Nanolithography on SiO
2
/Si with a scanning tunnelling microscope
Hiroshi Iwasaki,
Tatsuo Yoshinobu
, Koichi Sudoh
研究成果
:
Review article
›
査読
37
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Nanolithography on SiO
2
/Si with a scanning tunnelling microscope」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Engineering
Scanning Tunneling Microscope
100%
Nanometre
66%
Si Substrate
66%
Nanoscale
66%
Oxide Layer
33%
Exposure Time
33%
Quantum Yield
33%
Line Width
33%
Beam Energy
33%
Thermal Annealing
33%
Core Level
33%
Applications
33%
Fields
33%
Reduction
33%
Development
33%
Mechanisms
33%
High Temperature
33%
Windows
33%
Concentric Circle
33%
Earth and Planetary Sciences
Excitation
66%
Electron
33%
Oxide
33%
Nanofabrication
33%
Nanotechnology
33%
Utilization
33%
Dependence
33%
Landscape
33%
Show
33%
Good
33%
Tip
33%
Decomposition
33%
Removal
33%
Emission
33%
High Temperature
33%
Spacing
33%
Dosage
33%
Diagnosis
33%
Adjusting
33%
Flexibility
33%
Physics
Electron Beams
100%
Nanoscale
66%
Oxide
33%
Decomposition
33%
Nanotechnology
33%
Nanofabrication
33%
Emission
33%
Utilization
33%
Spacing
33%
High Temperature
33%
Diagnosis
33%
Flexibility
33%
Adjusting
33%
Material Science
Patterning
66%
Nanolithography
66%
Topography
33%