Nano-scale characterization of poly-Si gate on high-k gate stack structures by scanning photoemission microscopy*

S. Toyoda, Y. Nakamura, K. Horiba, H. Kumigashira, M. Oshima, K. Amemiya

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Nano-scale characterization of poly-Si gate on high-k gate stack structures by scanning photoemission microscopy*」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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