Monitoring of inner wall condition in mass-production plasma etching process using a load impedance monitoring system

Yuji Kasashima, Hiroyuki Kurita, Naoya Kimura, Akira Ando, Fumihiko Uesugi

研究成果: Article査読

4 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Monitoring of inner wall condition in mass-production plasma etching process using a load impedance monitoring system」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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