Metal organic atomic layer deposition of high-k gate dielectrics using plasma oxidation

Kazuhiko Endo, Toru Tatsumi

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Metal organic atomic layer deposition of high-k gate dielectrics using plasma oxidation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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