Metal induced gap states at alkali halide/metal interface

Manabu Kiguchi, Genki Yoshikawa, Susumu Ikeda, Koichiro Saiki

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抄録

The electronic state of a KCl/Cu(0 0 1) interface was investigated using the Cl K-edgc near-edge X-ray absorption fine structure (NEXAPS). A pre-peak observed on the bulk edge onset of thin KC1 films has a similar feature to the peak at a LiCl/ Cu(0 0 1) interface, which originates from the metal induced gap state (MIGS). The present result indicates that the MIGS is formed universally at alkali halide/metal interfaces. The decay length of MIGS to an insulator differs from each other, mainly due to the difference in the band gap energy of alkali halide.

本文言語English
ページ(範囲)495-498
ページ数4
ジャーナルApplied Surface Science
237
1-4
DOI
出版ステータスPublished - 2004 10月 15
外部発表はい

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「Metal induced gap states at alkali halide/metal interface」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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