Low-damage low- k etching with an environmentally friendly C F3 i plasma

Eiichi Soda, Seiichi Kondo, Shuichi Saito, Yoshinari Ichihashi, Aiko Sato, Hiroto Ohtake, Seiji Samukawa

研究成果: Article査読

22 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Low-damage low- k etching with an environmentally friendly C F3 i plasma」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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