Josephson junction arrays on Si membrane using focused electron beam irradiation

S. J. Kim, Koji Nakajima, J. Chen, H. Myoren, T. Yamashita, M. Esashi

研究成果: Article査読

抄録

Series arrays of two Josephson junctions were fabricated by focused electron beam (FEB) irradiation on YBCO films. The arrays show single junction like behavior with the coherent oscillations of the Shapiro steps in a array up to 2.8 mV. Microwave-induced Shapiro steps correspond to the double voltages Vn1= 2nVJ where VJ= foh/2e in two-junction arrays. The microwave power dependence of I-V curves shows the coherently oscillating steps corresponding to the resistively shunted junction (RSJ) model.

本文言語English
ページ(範囲)2467-2468
ページ数2
ジャーナルPhysica C: Superconductivity and its applications
282
PART 4
DOI
出版ステータスPublished - 1997 8月

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 凝縮系物理学
  • エネルギー工学および電力技術
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Josephson junction arrays on Si membrane using focused electron beam irradiation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル