Interface engineering for the passivation of c-Si with O 3-based atomic layer deposited AlO x for solar cell application

Hyunju Lee, Tomihisa Tachibana, Norihiro Ikeno, Hiroki Hashiguchi, Koji Arafune, Haruhiko Yoshida, Shin Ichi Satoh, Toyohiro Chikyow, Atsushi Ogura

研究成果: Article査読

28 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Interface engineering for the passivation of c-Si with O <sub>3</sub>-based atomic layer deposited AlO <sub>x</sub> for solar cell application」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy