Influence of substrate bias voltage on the impurity concentrations in Hf films deposited by ion beam deposition method

Joon Woo Bae, Jae Won Lim, Kouji Mimura, Minoru Isshiki

研究成果: Article査読

フィンガープリント

「Influence of substrate bias voltage on the impurity concentrations in Hf films deposited by ion beam deposition method」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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