Influence of Al2O3 gate dielectric on transistor properties for IGZO thin film transistor

Kazunori Kurishima, Toshihide Nabatame, Maki Shimizu, Shinya Aikawa, Kazuhito Tsukagoshi, Akihiko Ohi, Toyohiro Chikyo, Atsushi Ogura

研究成果: Conference article査読

4 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Influence of Al2O3 gate dielectric on transistor properties for IGZO thin film transistor」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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