Highly active second-order nonlinearity from sol-gel processed poled silica and germanosilicate thin film

Tomoyuki Hirama, Hiroyuki Muto, Okihiro Sugihara, Naomichi Okamoto

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抄録

Poled silica and germanosilicate thin films are prepared with typical sol-gel processing. Second-order nonlinearity about one order of magnitude larger than that of quartz crystal is realized. Substrate effect and dopant effect on the nonlinearity are discussed.

本文言語English
ページ(範囲)17-18
ページ数2
ジャーナルOptical Review
3
1
DOI
出版ステータスPublished - 1996 1 1

ASJC Scopus subject areas

  • 原子分子物理学および光学

フィンガープリント

「Highly active second-order nonlinearity from sol-gel processed poled silica and germanosilicate thin film」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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