High-quality epitaxial TiO2 thin films grown on α-Al2O3 substrates by pulsed laser deposition

R. Shinohara, T. Yamaki, S. Yamamoto, H. Itoh, K. Asai

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抄録

Epitaxial TiO2 rutile films were grown at 200, 400 and 600°C by pulsed laser deposition (PLD) and their orientations were controlled by the use of α-Al2O3 (1000) and (101̄0) substrates. The crystallinity of the films grown at 600°C was higher than that of films deposited by other methods.

本文言語English
ページ(範囲)967-969
ページ数3
ジャーナルJournal of Materials Science Letters
21
12
DOI
出版ステータスPublished - 2002 6月 15
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  • 材料科学(全般)

フィンガープリント

「High-quality epitaxial TiO2 thin films grown on α-Al2O3 substrates by pulsed laser deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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