High-performance three-terminal fin field-effect transistors fabricated by a combination of damage-free neutral-beam etching and neutral-beam oxidation

Akira Wada, Keisuke Sano, Masahiro Yonemoto, Kazuhiko Endo, Takashi Matsukawa, Meishoku Masahara, Satoshi Yamasaki, Seiji Samukawa

研究成果: Article

8 引用 (Scopus)

フィンガープリント High-performance three-terminal fin field-effect transistors fabricated by a combination of damage-free neutral-beam etching and neutral-beam oxidation' の研究トピックを掘り下げます。これらはともに一意のフィンガープリントを構成します。

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