High Flux Density Silicon-Iron Ribbons

K. I. Arai, N. Tsuya, K. Ohmori, T. Matsuoka, H. Shimanaka

研究成果: Article査読

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抄録

Silicon iron ribbons with silicon concentration lower than 4 wt% were prepared by a rapid quenching roll method, and the size of ribbons obtained were 2 ∽4 mm in width and 40∽60 μm in thickness. The grains grew to about 2 mm and the ribbons had (100)[0kl] cube-on-face grain textures after annealing the ribbons in vacuum atmosphere. The coercive force of the 2. 5Si. 97. 5Fe ribbon was decreased to 60 mOe by annealing at 1160°C for 2 hours at the pressure of 6x10-3 Torr.

本文言語English
ページ(範囲)1418-1420
ページ数3
ジャーナルIEEE Transactions on Magnetics
18
6
DOI
出版ステータスPublished - 1982 11
外部発表はい

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  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 電子工学および電気工学

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「High Flux Density Silicon-Iron Ribbons」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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