Formation of ultra-shallow base with high boron-doping concentration for high-performance SiGe HBTs

Katsuya Oda, Makoto Miura, Hiromi Shimamoto, Katsuyoshi Washio

研究成果: Article査読

フィンガープリント

「Formation of ultra-shallow base with high boron-doping concentration for high-performance SiGe HBTs」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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