Formation of channel waveguide with grating in polymer films based on simultaneous photobleaching and embossing

S. Shibata, O. Sugihara, Y. Che, H. Fujimura, C. Egami, N. Okamoto

研究成果: Article査読

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抄録

Channel waveguide with grating is fabricated in nonlinear optical (NLO) polymer thin films by means of simultaneous embossing and photobleaching. A combined structure of mask/master consisting of a photomask part and a grating die part which is made of polyimide is fabricated. Then the mask/master is set on the NLO polymer films and both embossing and photobleaching are performed simultaneously. Profiles of the replica grating and the channel waveguide are estimated.

本文言語English
ページ(範囲)495-498
ページ数4
ジャーナルOptical Materials
21
1-3
DOI
出版ステータスPublished - 2003 1月
外部発表はい

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フィンガープリント

「Formation of channel waveguide with grating in polymer films based on simultaneous photobleaching and embossing」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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