Fin-height controlled TiN-gate FinFET CMOS based on experimental mobility

Y. X. Liu, T. Matsukawa, K. Endo, M. Masahrara, S. O'uchi, H. Yamauchi, K. Ishii, J. Tsukada, Y. Ishikawa, K. Sakamoto, E. Suzuki

研究成果: Article査読

8 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Fin-height controlled TiN-gate FinFET CMOS based on experimental mobility」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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