Examination of surface-roughness of silicon crystals by double-crystal x-ray topography

Michio Niwano, Tadashi Kobayashi, Nobuo Miyamoto

研究成果: Article査読

抄録

A new method of examining surface-roughness of silicon crystals, which uses the refraction effect in double-crystal X-ray topography, is proposed. It was shown that local slopes with an angle of inclination to a few tenths of a degree are detectable with this method.

本文言語English
ページ(範囲)1113-1114
ページ数2
ジャーナルJapanese journal of applied physics
27
6R
DOI
出版ステータスPublished - 1988 6

ASJC Scopus subject areas

  • 工学(全般)
  • 物理学および天文学(全般)

フィンガープリント

「Examination of surface-roughness of silicon crystals by double-crystal x-ray topography」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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