Epitaxial growth of Si1-x-yGexCy film on Si(100) in a SiH4-GeH4-CH3SiH3 reaction

A. Ichikawa, Y. Hirose, T. Ikeda, T. Noda, M. Fujiu, T. Takatsuka, A. Moriya, M. Sakuraba, T. Matsuura, Junichi Murota

研究成果: Conference article査読

20 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Epitaxial growth of Si<sub>1-x-y</sub>Ge<sub>x</sub>C<sub>y</sub> film on Si(100) in a SiH<sub>4</sub>-GeH<sub>4</sub>-CH<sub>3</sub>SiH<sub>3</sub> reaction」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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