Environmentally harmonized C F3 i plasma for low-damage and highly selective low- k etching

Seiji Samukawa, Yoshinari Ichihashi, Hiroto Ohtake, Eiichi Soda, Shuichi Saito

研究成果: Article査読

12 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Environmentally harmonized C F3 i plasma for low-damage and highly selective low- k etching」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy