Effects of strained layer near SiO2-Si interface on electrical characteristics of ultrathin gate oxides

Koji Eriguchi, Yoshinao Harada, Masaaki Niwa

研究成果: Article査読

34 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Effects of strained layer near SiO<sub>2</sub>-Si interface on electrical characteristics of ultrathin gate oxides」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy