Effect of synchrotron radiation on electrical characteristics of SiO xNy thin films formed by rapid thermal processing in a N2O ambient

Tomiyuki Arakawa, Yoshio Yamashita, Hiroshi Hoga, Shuichi Noda, Hisashi Fukuda

研究成果: Article査読

5 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Effect of synchrotron radiation on electrical characteristics of SiO <sub>x</sub>N<sub>y</sub> thin films formed by rapid thermal processing in a N<sub>2</sub>O ambient」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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