Design and fabrication of multichannel Si/SiO2 autocloned photonic crystal edge filters

Yasuo Ohtera, Daniel Kurniatan, Hirohito Yamada

研究成果: Article査読

13 被引用数 (Scopus)

抄録

An Si/SiO2 multilayer with zigzag layer interfaces is fabricated on a patterned silica substrate using the autocloning method. The multilayer is designed to function as multichannel long-wave pass type edge filters with various cutoff wavelengths. A cutoff wavelength shift of the order of 190nm in the near infrared region (1300-1500 nm) is experimentally demonstrated.

本文言語English
ページ(範囲)C50-C54
ジャーナルApplied optics
50
9
DOI
出版ステータスPublished - 2011 3 20

ASJC Scopus subject areas

  • 原子分子物理学および光学
  • 工学(その他)
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Design and fabrication of multichannel Si/SiO<sub>2</sub> autocloned photonic crystal edge filters」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル