Depth profiling of chemical states and charge density in HfSiON by photoemission spectroscopy using synchrotron radiation

T. Tanimura, S. Toyoda, H. Kumigashira, M. Oshima, K. Ikeda, G. L. Liu, Z. Liu

研究成果: Article査読

9 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Depth profiling of chemical states and charge density in HfSiON by photoemission spectroscopy using synchrotron radiation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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