Control of epitaxy of graphene by crystallographic orientation of a Si substrate toward device applications

Hirokazu Fukidome, R. Takahashi, S. Abe, K. Imaizumi, H. Handa, H. C. Kang, H. Karasawa, Tetsuya Suemitsu, Taiichi Otsuji, Y. Enta, A. Yoshigoe, Y. Teraoka, M. Kotsugi, T. Ohkouchi, T. Kinoshita, Maki Suemitsu

研究成果: Article査読

32 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Control of epitaxy of graphene by crystallographic orientation of a Si substrate toward device applications」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Chemical Compounds

Engineering & Materials Science