Comparison of thermal and plasma oxidations for HfO 2 /Si interface

S. Hayashi, K. Yamamoto, Y. Harada, R. Mitsuhashi, K. Eriguchi, M. Kubota, M. Niwa

研究成果: Article査読

14 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Comparison of thermal and plasma oxidations for HfO <sub>2</sub> /Si interface」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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