Behavior of the edge dislocation propagating along the growth direction in Czochralski Si crystal growth

Toshinori Taishi, Xinming Huang, Ichiro Yonenaga, Keigo Hoshikawa

研究成果: Conference article査読

7 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Behavior of the edge dislocation propagating along the growth direction in Czochralski Si crystal growth」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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