Behavior of N atoms after thermal nitridation of Si1 - XGe x surface

Tomoyuki Kawashima, Masao Sakuraba, Bernd Tillack, Junichi Murota

研究成果: Article査読

4 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Behavior of N atoms after thermal nitridation of Si<sub>1 - X</sub>Ge <sub>x</sub> surface」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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