Balanced electron drift oxide etcher with Xe added gas chemistry for low cost and high performance contact metallization

Hiroyuki Komeda, Masaki Hirayama, Yusuke Hirayama, Kazuhide Ino, Ryu Kaihara, Tadahiro Ohmi

研究成果: Conference article査読

2 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Balanced electron drift oxide etcher with Xe added gas chemistry for low cost and high performance contact metallization」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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