Atomic layer defect-free etching for germanium using HBr neutral beam

Takuya Fujii, Daisuke Ohori, Shuichi Noda, Yosuke Tanimoto, Daisuke Sato, Hideyuki Kurihara, Wataru Mizubayashi, Kazuhiko Endo, Yiming Li, Yao Jen Lee, Takuya Ozaki, Seiji Samukawa

研究成果: Article査読

3 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Atomic layer defect-free etching for germanium using HBr neutral beam」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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