Arsenic Doping of Chemical Vapor Deposited Polycrystalline Silicon Using SiH4-H2 -AsH3 Gas System

Junichi Murota, Eisuke Arai, Kiyoshi Kudo

研究成果: Article査読

8 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Arsenic Doping of Chemical Vapor Deposited Polycrystalline Silicon Using SiH4-H2 -AsH3 Gas System」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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